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微型液體氣化儀基本參數(shù)產(chǎn)品介紹
微型液體氣化儀基本參數(shù)產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品概述LVD-F1是一款適用于實(shí)驗(yàn)室中CVD或DLCVD實(shí)驗(yàn)的導(dǎo)入液體的一款經(jīng)濟(jì)高效的液體蒸發(fā)輸送系統(tǒng)。其液體流量是通過一個(gè)數(shù)字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動(dòng)泵導(dǎo)入到混氣系統(tǒng)后,被系統(tǒng)里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導(dǎo)入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠?qū)С龆喾N液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機(jī)物混合。對(duì)于研究用...

2021-06-18
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  • 用自動(dòng)研磨機(jī)研磨高分子復(fù)合材料

    用自動(dòng)研磨機(jī)研磨高分子復(fù)合材料實(shí)驗(yàn)材料:12×12×19㎜的高分子復(fù)合材料試樣塊4塊,樣品尺寸如圖1所示;實(shí)驗(yàn)?zāi)康模簩⒏叻肿訌?fù)合材料選取一組面(兩面相對(duì))研磨并拋光。實(shí)驗(yàn)設(shè)備:科晶制造的UNIPOL-802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)、MTI-3040加熱平臺(tái)、VGT-1620QTD超聲波清洗機(jī),實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備如圖2所示;實(shí)驗(yàn)耗材:水磨砂紙、合成革拋光墊、金剛石噴霧拋光劑、石蠟,實(shí)驗(yàn)所用耗材如圖3所示;實(shí)驗(yàn)過程:要對(duì)樣品進(jìn)行研磨首先要把樣品固定在研磨機(jī)專用載樣塊上,一般選用石蠟在載樣塊上...

    20218-16
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  • 檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備 WO3 薄膜光電性質(zhì)的影響

    檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜光電性質(zhì)的影響摘要:以偏鎢酸銨為鎢源,檸檬酸為絡(luò)合劑,聚乙二醇(PEG)為聚合物合成前驅(qū)體溶膠,并用浸漬提拉法在FTO導(dǎo)電玻璃上制備了WO3薄膜,研究配位劑檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜結(jié)構(gòu)和光電性質(zhì)的影響。采用X線衍射、拉曼光譜和場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡等手段研究薄膜的相組成及表面形貌,借助標(biāo)準(zhǔn)三電極體系進(jìn)行了光電化學(xué)測(cè)試,并進(jìn)一步討論了檸檬酸對(duì)WO3薄膜光電性能影響機(jī)理。結(jié)果表明:CA和W摩爾比為0,0.5,1.0和2.0條件下薄膜表面顆粒...

    20218-13
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  • 經(jīng)典實(shí)驗(yàn)-陶瓷/玻璃-使用超聲分篩機(jī)分篩粉末

    問題來源:球磨是大多高??蒲性簻p少樣品粒徑的主流方式,但是球磨之后球與粉難于分離,且大多數(shù)粉末會(huì)產(chǎn)生團(tuán)聚,分篩時(shí)難通過篩網(wǎng)的孔洞。為此科晶推出小型超聲分篩系統(tǒng)可很好的解決以上問題。解決辦法:用小型超聲篩分系統(tǒng),在分篩過程中加入超聲震動(dòng)。試驗(yàn)案例:超聲波分篩機(jī)分篩球研磨粉末樣品試驗(yàn)簡(jiǎn)述:將球磨后的樣品放入分篩機(jī)中,配合不同目數(shù)分篩網(wǎng),篩分樣品。第一步:分散樣品第二步:球與球之間碰撞,將粘在球上的粉料撞擊下來實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下:球磨后樣品分篩結(jié)果:分篩機(jī)篩網(wǎng)機(jī)構(gòu)介紹應(yīng)用技術(shù)總結(jié):1.分...

    20218-12
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  • 真空鍍膜技術(shù)的原理在各大行業(yè)里的應(yīng)用

    1、真空鍍膜機(jī)PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。2、真空鍍膜機(jī)PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來,真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的,它已經(jīng)成為當(dāng)今的表面處理方式...

    20218-11
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  • 鍍膜機(jī)的選擇,如何判斷好的鍍膜機(jī)

    鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。產(chǎn)品鍍制膜層需求量大了,需要考慮購買鍍膜機(jī),但國內(nèi)外鍍膜機(jī)制造商實(shí)在太多,鍍膜機(jī)對(duì)于整個(gè)產(chǎn)品的加工有重大的影響,如何選擇一個(gè)適合自己的品牌鍍膜機(jī)呢,鍍膜機(jī)選擇哪個(gè)種類好呢,下面說下本人的一點(diǎn)拙見。1.首先是大小,要根據(jù)自己的產(chǎn)品來確定可能使用到的鍍膜機(jī),鍍膜機(jī)的價(jià)格和大小是有關(guān)系的,越大的鍍膜機(jī)往往價(jià)格越貴。選...

    20218-10
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  • 箱式爐使用過程中升溫較慢的主要原因

    箱式爐又名馬弗爐。適用于電力、煤炭、造紙、石化、水泥、農(nóng)牧、醫(yī)藥科研、教學(xué)等行業(yè)和部門。相對(duì)于管式爐來說箱式爐的爐內(nèi)空間會(huì)大很多。也只有如此高溫的、腔體大的爐子才能將比較硬也比較大的材料融化。可是,在使用的過程中有些老師會(huì)遇到爐子溫度總是升不上去或不加熱的情況,例如箱式爐設(shè)定的是10℃/min,而爐子卻1分鐘只升溫了1℃,影響實(shí)驗(yàn)無法進(jìn)行。遇到這種情況,很多老師首先想到的是等技術(shù)人員過來維修,技術(shù)人員從外地趕過來少說需要1天時(shí)間,這樣浪費(fèi)了老師的工作時(shí)間不說,對(duì)經(jīng)濟(jì)也是一種損...

    20218-9
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  • 真空鍍膜機(jī)設(shè)備如何維護(hù)

    真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機(jī)設(shè)備中的擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上,抽速就會(huì)明顯變慢,或操作失當(dāng),充入大氣,拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級(jí)噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水*清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴(kuò)散泵油,并裝回機(jī)體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機(jī)。在重新開機(jī)前...

    20218-6
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  • 真空鍍膜機(jī)漏氣該如何檢查

    查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機(jī)真空度的一項(xiàng)查看辦法,簡(jiǎn)稱檢漏,真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的,所以檢漏是*的。通常真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生,當(dāng)抽氣體系抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低,外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi),形成真空度降低。在檢漏的過程中,需求留意一些問題,才能把檢漏作業(yè)做好。*,要承認(rèn)漏氣究竟的虛漏仍是實(shí)漏,因?yàn)楣ぜY料加熱后都會(huì)在不一樣程度上發(fā)生氣體,有可能誤以為是從外部流進(jìn)的氣體,這就是虛漏,...

    20218-5
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  • 真空管式爐維護(hù)你需要注意的方面

    真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測(cè)定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。真空管式爐維護(hù)注意點(diǎn):1、管式電阻爐在*次使用或長(zhǎng)期停用后再次使用時(shí),必須進(jìn)行一次烘爐干燥,使用時(shí)爐溫不得超過zui高溫度,以免燒毀電熱原件;2、管式電阻爐和控制器必須在相對(duì)濕度不超過85%,沒有導(dǎo)電塵埃、爆炸性氣體和能夠破壞金屬絕緣以及對(duì)電子原件有害的腐蝕性氣體的場(chǎng)所工作;3、定期檢查管式電阻爐、控制器各接線頭接觸是否良好,指示儀指針運(yùn)動(dòng)時(shí)有無卡滯...

    20218-4
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  • 等離子鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法

    等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),等離子鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn),可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍...

    20218-3
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  • 等離子鍍膜設(shè)備鍍層厚度分布均勻的重要性

    等離子鍍膜設(shè)備電沉積時(shí)總希望等離子鍍膜設(shè)備鍍層厚度在工件上的分布越均勻越好。當(dāng)工件上沉積的總金屬量相同時(shí),若厚度分布不均勻,則會(huì)帶來很多壞處:(1)對(duì)于陽極性鍍層,等離子鍍膜設(shè)備鍍層薄處經(jīng)不起犧牲腐蝕會(huì)先使基體產(chǎn)生銹蝕。而一個(gè)制件部分銹蝕后則已不合格,造成了鍍層過厚處金屬的浪費(fèi)。若為保證zui薄處不生銹,只能加大平均厚度,導(dǎo)致電鍍成本增大。(2)對(duì)于陰極性鍍層,等離子鍍膜設(shè)備薄處鍍層孔隙率高,很易產(chǎn)生點(diǎn)狀銹蝕,繼而銹點(diǎn)加大,形成連片銹蝕。與陽極性鍍層相比,陰極性鍍層薄處銹蝕更...

    20218-2
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  • 高真空蒸發(fā)鍍膜儀靶材厚度的光密度檢測(cè)

    一般來說高真空蒸發(fā)鍍膜儀就是將靶材在真空的環(huán)境下加以高溫,使其以原子團(tuán)或者離子的形式被蒸發(fā)出來,然后在將基片防于真空倉中讓這些原子團(tuán)或離子沉淀在基片之上,在沉淀的過程中我們還能通過我們的需要來改變靶材的沉淀情況。在線光密度檢測(cè)儀能真空鍍膜生產(chǎn)的過程中進(jìn)行鍍膜厚均勻性的監(jiān)測(cè);選擇真空鍍膜就是想要在基片上均勻的鍍上膜,靶材厚度的均勻性就決定了鍍膜的品質(zhì),鍍膜生產(chǎn)過程中我們可以使用透光率光密度檢測(cè)儀來進(jìn)行在線測(cè)試,通過光譜里的紅外線透過率、紫外線透過率以及可見光穿透率來進(jìn)行監(jiān)控感應(yīng)...

    20217-30
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