CVD氣相沉積的高溫分解反應(yīng)過(guò)程和特點(diǎn)說(shuō)明

更新時(shí)間：2023-06-27 點(diǎn)擊次數(shù)：3025

    CVD氣相沉積是一種生產(chǎn)高質(zhì)量固體薄膜和涂層的*技術(shù)。盡管已廣泛用于現(xiàn)代工業(yè)中，但由于它已適應(yīng)新材料，因此仍正在不斷發(fā)展中。如今，通過(guò)精確制造2D材料的無(wú)機(jī)薄膜和可以共形沉積在各種基材上的高純度聚合物薄膜，CVD合成技術(shù)正被推向新的高度。

    CVD氣相沉積的高溫分解反應(yīng)：

    CVD沉積反應(yīng)里簡(jiǎn)單直接的方式就是熱分解反應(yīng)，其原理主要是固態(tài)化合物升溫到一定溫度會(huì)分解為固態(tài)目標(biāo)產(chǎn)物和氣態(tài)副產(chǎn)物。操作步驟一般是向真空或惰性氣氛下的單溫區(qū)管式爐導(dǎo)入反應(yīng)氣體，將爐溫升至化合物的分解溫度使之發(fā)生分解，在基片上沉積得到目標(biāo)產(chǎn)物。熱分解反應(yīng)的關(guān)鍵在于合適揮發(fā)源和分解溫度的選擇，尤其需要特別注意原材料在不同溫度下的分解產(chǎn)物。

    目前常使用的原料有氫化物、羰基化合物和金屬有機(jī)化合物等，因其化學(xué)鍵的解離能都普遍較小，易分解，分解溫度相對(duì)較低，尤其氫化物分解后的副產(chǎn)物是沒(méi)有腐蝕性的氫氣。熱分解反應(yīng)主要適用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等材料的制備。

    CVD氣相沉積的特點(diǎn)：

    ■采用多層隔板設(shè)計(jì)，批量處理模壓光學(xué)鏡片的碳鍍膜工藝，每爐可放數(shù)千個(gè)鏡片；

    ■智能化PLC程序升溫程序，真空程序，CVD進(jìn)氣程序，操作簡(jiǎn)單方便；

    ■優(yōu)化干式真空泵，杜絕油液污染，可選擇國(guó)產(chǎn)干式泵和進(jìn)口干式泵；

    ■智能化CVD進(jìn)氣控制系統(tǒng)，適應(yīng)于氮?dú)狻⒁胰?甲烷、氬氣、空氣的通入和混合；

    ■先進(jìn)的密封系統(tǒng)，泄漏率低，長(zhǎng)期使用穩(wěn)定性高。

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