20世紀(jì)60年代以后，CVD法不僅應(yīng)用于宇航工業(yè)的特殊復(fù)合材料、原子反應(yīng)堆材料、刀具、耐熱耐腐蝕涂層等領(lǐng)域，還被應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)領(lǐng)域，雖然比較晚，但今天作為大規(guī)模集成電路技術(shù)及鐵電材料、絕緣材料、磁性材料的薄膜制備技術(shù)，都是*的。CVD法制備薄膜材料是近年來半導(dǎo)體、大規(guī)模集成電路應(yīng)用較成功的一種工藝方法，主要用于硅、砷化鎵材料的外延生長、金屬薄膜材料、表面絕緣層、硬化層等，用于一些如氧化物、碳化物、金剛石和類金剛石等功能薄膜和超硬薄膜的沉積，也用于粉末、塊狀材料、纖維等的合成，并成為電子、機(jī)械等許多工業(yè)領(lǐng)域重要的材料合成方法。

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安裝調(diào)試非常順利

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