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刻蝕機 適合于8英寸及以下晶圓的單片刻蝕工藝 可選耐腐蝕PP柜體 可按客戶需求定制設(shè)備規(guī)格 全自動擺臂、可配備多路刻蝕液 觸摸式人機交互界面,實時顯示設(shè)備運行狀態(tài) 可選蝕刻液加熱控溫及FFU功能 專用排風、排廢系統(tǒng)、提高設(shè)備的安全性

全自動標準8寸勻膠顯影機 適用于2至6英寸晶圓的勻膠顯影工藝 最大設(shè)備配置:4套勻膠（顯影）、10套熱（冷）板單元 6寸以下wafer全自動勻膠/顯影,烘烤全自動工藝處理 整機適合產(chǎn)能要求較高的批量產(chǎn)線 根據(jù)客戶工藝需求可加裝溫濕度控制、離子風棒等模塊 可選配MES協(xié)議轉(zhuǎn)換模塊

全自動標準2-6寸勻膠顯影機 適用于2至6英寸晶圓的勻膠顯影工藝 最大設(shè)備配置:4套勻膠（顯影）、10套熱（冷）板單元 6寸以下wafer全自動勻膠/顯影,烘烤全自動工藝處理 整機適合產(chǎn)能要求較高的批量產(chǎn)線 根據(jù)客戶工藝需求可加裝溫濕度控制、離子風棒等模塊 可選配MES協(xié)議轉(zhuǎn)換模塊

軌道式勻膠顯影機 適用于8英寸及以下晶圓的勻膠顯影工藝 最大設(shè)備配置:2套勻膠（顯影）單元、4套熱（冷）板單元 可選8寸以下多種wafer尺寸全自動勻膠/顯影,烘烤工藝處理 整機性價比高,適合產(chǎn)能要求適中的批量產(chǎn)線 根據(jù)客戶工藝需求可加裝等離子風棒等模塊 可選配MES協(xié)議轉(zhuǎn)換模塊

超大型勻膠機 適用于直徑450mm-2000mm的非規(guī)則重載基底勻膠工藝 可根據(jù)客戶基片規(guī)格及工藝定制設(shè)備 不銹鋼全柜式柜體,多級安全系統(tǒng) 透明觀察窗,配置專業(yè)排風及排廢系統(tǒng) 可配置自動膠臂滴膠功能 觸摸式人機交互界面,可靈活設(shè)置100組工藝配方

大型勻膠/顯影機 適用于直徑450mm-800mm的非規(guī)則重載基底勻膠工藝 可根據(jù)客戶基片規(guī)格及工藝定制設(shè)備 不銹鋼全柜式柜體,多級安全系統(tǒng) 透明觀察窗,配置專業(yè)排風及排廢系統(tǒng) 可配置自動膠臂滴膠功能 觸摸式人機交互界面,可靈活設(shè)置100組工藝配方