18016035557
產(chǎn)品中心
當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 制膜設(shè)備 >
MSK-AFA-II-VC自動(dòng)涂布機(jī)廣泛用于各種高溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜等。MSK-AFA-II-VC自動(dòng)涂布機(jī)采用真空吸附方法來對(duì)基片進(jìn)行固定，使得在涂布過程中基片無褶皺現(xiàn)象產(chǎn)生，從而使得涂布更加均勻順暢。膜的寬度保持不變，制膜厚度可根據(jù)刮刀上方的千分尺進(jìn)行調(diào)節(jié)，刮刀與基片間的間隙小，則所制備薄膜厚度??；刮刀與基片間的間隙大，則所制備的薄膜厚度厚。
PTL-6PB 六工位提拉機(jī)一次可提拉一個(gè)樣件，通過程序控制使樣件逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，在裝料燒杯中浸沒一定時(shí)間后提拉出來進(jìn)行干燥，浸沒時(shí)間和干燥時(shí)間可以通過程序進(jìn)行設(shè)置。PTL-6PB六工位提拉機(jī)的六個(gè)裝料燒杯中可以裝同一種薄膜材料，也可以分裝不同的薄膜材料。該機(jī)設(shè)有六個(gè)溫控表，可在涂膜過程中對(duì)裝料燒杯進(jìn)行加熱，可以設(shè)置相同的溫度進(jìn)行加熱，也可以設(shè)置不同的溫度進(jìn)行加熱，根據(jù)燒杯內(nèi)所裝薄膜材料而定。
磁控濺射儀可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。
高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。
磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設(shè)備采用先進(jìn)的磁控濺射鍍膜技術(shù)，配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng)，適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng)，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜技術(shù)的一種。設(shè)計(jì)而成的簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實(shí)驗(yàn)室制備掃描電鏡樣品使用，且設(shè)備體積小巧，
關(guān)注公眾號(hào)