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1200℃立式真空小管式爐OTF-1200X-S-VT是一款小型開啟式立式管式爐，適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。采用PID控制器進行溫度調(diào)節(jié)，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

KSL-1200X-H是一款最新設計的混合管式/箱式爐，此款高溫爐配有2個爐管（帶有真空密封法蘭）和一個7.2L的箱式腔體。此款高溫爐可在同一時間對不同樣品在空氣下燒結，也可對部分樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下熱處理。

1200℃單溫區(qū)可傾斜旋轉(zhuǎn)爐OTF-1200X-4-R是針對無機化合物煅燒，為獲得較好的一致性而設計。特別對于鋰電池負極材料的制備，具有好的效果，且可提高導電性。此外，還可應用在粉體材料上涂層，如LiFePO3、LiMnNiO3等材料的研究和開發(fā)。

1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-II最高溫度可達到1200℃，并可通過調(diào)節(jié)兩個獨立的控溫程序，使爐管內(nèi)溫度場形成一梯度。本機可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1200℃微型開啟式管式爐OTF-1200X-S是小型管式爐，最高工作溫度為1200℃，最大功率為1200W，可配置直徑為1“或2“的高純石英爐管。爐管兩端配置一對不銹鋼法蘭，設有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒結。

這款微型PECVD系統(tǒng)，其腔體為 3*dia× 16“L的石英腔體，而且加熱圈在石英腔體內(nèi)部對樣品進行加熱，此系統(tǒng)配有2通道混氣系統(tǒng)和雙旋機械泵。整套儀器都按放在一個移動架上，以便于實驗操作。等離子腔體內(nèi)部的最高溫度可以達到400℃，采用程序化控溫。此款小型廉價的PECVD系統(tǒng)對于薄膜生長和納米線的制作是一款很好的選擇。